Şubat 2024’te Kimya ve Metalürji Alanında Öne Çıkan Patent Başvuruları

Patent başvuruları, inovasyon ve araştırma geliştirme faaliyetlerinin önemli bir göstergesidir. Bu bağlamda, IPC (International Patent Classification) C sınıfı, Kimya ve Metalürji alanında yapılan patent başvurularını kapsar.

Bu makalemizde Şubat 2024 patent bülteni üzerinden bu sınıfa dahil edilen patent başvurularını mercek altına alıyor,  yayınlanan patent başvurularının ayrıntılarını, dikkat çeken eğilimleri ve sektörel dinamikleri inceliyoruz.

Şubat ayında, IPC C sınıfında BOREALIS AG, JFE STEEL CORPORATION, NOVARTIS AG ve UNILEVER GLOBAL IP LIMITED gibi uluslararası firmaların her birinden 4’er adet başvuru yapılmıştır. Üniversiteler bazında  ise, Yıldız Teknik Üniversitesi 2 başvuru ile en aktif yerli katılımcı olmuş, Türkiye genelinde üniversitelerden toplam 9 adet başvuru yapılmıştır.

Toplamda, yerli ve yabancı başvuruların sayısı 202’ye ulaşmıştır. Bu başvuruların %20’si yerli (ulusal), %80’i ise EPC validasyonu (Avrupa Patent Sözleşmesi kapsamında yapılan uluslararası başvurular) ile yapılmıştır. Bu oranlar, uluslararası alanda yapılan başvuruların yerli başvurulara göre oldukça yüksek olduğunu göstermektedir.

Espacenet verilerine göre, IPC C sınıfında Şubat ayında toplam 43,980 adet başvuru yayınlanmıştır. Bu başvuruların coğrafi dağılımı incelendiğinde, ABD 5497 başvuru ile ilk sırada yer alırken, Japonya 2740 başvuru ile ikinci, Kore ise 2112 başvuru ile üçüncü sırada yer almaktadır.

En çok başvuru yapılan firmalar ise BASF SE (186 başvuru), LG CHEMICAL LTD (177 başvuru) ve DOW GLOBAL TECHNOLOGIES (121 başvuru) olarak sıralanmaktadır. Bu firmaların aktifliği, sektördeki yenilikçi çabalarının bir yansıması olarak değerlendirilebilir.

En çok başvuru yapılan alt dallar ise genetik mühendisliği ve su arıtma alanları olmuştur. Özellikle, genetik mühendisliği alanında 4730 adet, su arıtma alanında ise 3339 adet başvuru yapılmıştır. Bu veriler, biyoteknoloji ve çevre teknolojileri alanlarında yoğun bir araştırma ve geliştirme faaliyetinin olduğunu göstermektedir.

Şubat ayı bülteni üzerinden yapılan genel değerlendirme, IPC C sınıfı patent başvurularının, kimya ve metalürji alanında inovasyonun önemli bir parçası olduğunu ortaya koymaktadır. Uluslararası firmaların yanı sıra yerli üniversitelerin de bu sürece katkıda bulunması, ülkemizin araştırma ve geliştirme kapasitesinin artırılmasına yönelik önemli bir adımdır.

Ayrıca geçen seneki gibi EPO dan gelen yurtdışı fasikül başvurularının ulusal başvuruların önüne geçtiği görülmektedir.

Espacenet verileri incelendiğinde; C sınıfında özellikle 100 adet (main group) bulunmakta. En çok başvuru yapılan alt gruplar incelendiğinde “Genetik mühendisliği, Mutasyonlar “gelmekte olup. Biyo teknolojinin 2024 yılında da geçtiğimiz sene ve bir önceki sene gibi hala rövaşta olduğunu anlamaktayız. Bunun geçen seneki espacenet verileri incelendiğinde ciddi bir artış görülmekte.

Bu yıl espacenette Şubat ayında C sınıfında yayına çıkan toplam 43,980 başvuru bulunmaktadır. Geçen sene bu ayda yayına çıkan 29,269 adet başvuru bulunmaktadır. Bu da neredeyse geçen seneye göre %50 ye yakın bir başvuru artışı olarak yorumlanabilmektedir.

Bundan sonra gelen gruplarda da yine en çok başvurunun; “su, atık veya kanalizasyon arıtma” alanında bazı alt gruplarda yapılan başvurular olduğu görülmektedir. 100 adet grubun yer aldığı bu filtrede bu gruplar dikkat çekmekte olup, yaşadığımız küresel su sıkıntısının bir sonucu olarak 100 adet grubun içinde 2. Sıraya yerleşen su arıtmanın olması su sıkıntısının patentlere de yansıdığının bir göstergesidir.

3. olarak en çok başvuru yapılan al grup ise A61K31 grubu olup 3335 adet başvuru yer almaktadır. Bu grup ise Tıp alanında özellikle Organik aktif maddeler içeren tıbbi preparatları kapsamaktadır. Bu da Tıp alanındaki organik aktif maddelerin geçen seneki gibi hala rövaşta olduğunu göstermektedir.

Bu veriler, sektördeki güncel trendler ve inovasyon odakları hakkında değerli bilgiler sunarken, gelecek dönemlerdeki araştırma ve geliştirme yönlerine dair ipuçları da vermektedir.